Оборудование

Получение фоторезистивной маски

Получение фоторезистивной маскиПосле этого фотонегатив маски, выполненный в масштабе 1:1, плотно прижимают к слою фоторезиста и очень точно центрируют относительно подложки при помощи специальных приспособлений. Затем параллельным пучком ультрафиолетовых лучей засвечивают через фотонеггтив слой фоторезиста, подобно тому, как это происходит при обычной контактной фотопечати. Прочитать остальную часть записи »

Пленки металлов

Пленки металловПодготовка подложки к осаждению начинается с того, что ее тщательно шлифуют и полируют методами механической полировки или путем травления. После этого ее очищают (часто с использованием ультразвука) и промывают. Прочитать остальную часть записи »

Вакуумное напыление

Вакуумное напылениеПленки металлов могут служить также в качестве анодов в электролитах для получения на них слоя окисла, который может использоваться для изоляции или для изготовления такого интегрального компонента, как конденсатор. Прочитать остальную часть записи »

Тепловое разложение

Тепловое разложениеВакуумное напыление является очень удобным методом быстрого осаждения пленок из различных материалов. Катодное распыление.

Прочитать остальную часть записи »

Основные технологические процессы изготовления тонких пленок

Основные технологические процессы изготовления тонких пленокТепловое разложение производится аналогичным образом, но вместо водорода используется инертный газ и происходит реакция разложения. Разложение паров производится в атмосфере, имеющей давление в несколько миллиметров ртутного столба.

Прочитать остальную часть записи »